Чем ниже концентрация примеси (тут донорной), тем больше рабочие напряжения. Пластина помещается в печь, где происходит диффузия примеси p-типа и n– типа.
Тиристор можно рассматривать как два транзистора p - n- -p и n- -p –n+
В результате двойной диффузии получается четырехобластная структура, где области p1 и p2 имеет одинаковую концентрацию (более высокую, чем n1), а n2 имеет еще более высокую концентрацию, и тем более большую, чем n1, причем глубина переходов П1 и П2 одинакова, а переход П3 имеет меньшую глубину, чем П1 и П2. Переходы П1 и П2 имеют высокое пробивное напряжение, которое определяется концентрацией примеси в области n1. Переход П3 имеет малое пробивное напряжение (несколько десятков). Если напряжение по полярности + на аноде, а – на катоде, то переходы П1 и П3 оказываются смещены в прямом направлении и все напряжение анод-катод прикладывается к П2, поэтому этот переход определяет рабочее напряжение тиристора. Если продолжать увеличивать