До этого времени мы говорили о мелких донорах и акцепторах. В этом случае для полной компенсации примесных носителей заряда необходимо выполнять соотношения: NA=NP. Это условие очень тяжело выдержать технологически. Как известно, собственный полупроводник имеет наивысшее удельное сопротивление, что важно для изготовления подложек для ИМС и полупроводниковых приборов. Изготовление таких материалов очень трудоёмкий процесс. Но большого удельного сопротивления полупроводника можно достичь, если использовать для компенсации глубокую примесь.
Пусть полупроводник имеет мелкие донорные уровни с энергией Еd и концентрацией Nd. Введем в него глубокую акцепторную примесь с энергией ЕА>>Еd и концентрацией NA>Nd (рис. 4.17).
Глубокие акцепторные уровни захватывают все примесные электроны, поскольку их концентрация выше. Останется нескомпенсированная акцепторная примесь с концентрацией NA -Nd. Но её энергия ионизации приближается к середине запрещенной зоны. Поэтому при повышении температуры собственные электроны будут переходить в зону проводимости по двум степеням - “валентная зона” - “глубокий акцепторный уровень” - “зона проводимости”. То есть такой полупроводник будет вести себя как собственный и его удельное сопротивление будет большим. Но наличие большого количества центров рекомбинации снижает подвижность носителей заряда. Такой полупроводник называют полуизолирующим.
4.4 Простые полупроводники
Физико-химические свойства элементарных полупроводников приведены в табл. 4.1.