Основными этапами изготовления ИМС являются:
· получение чистого полупроводникового материала;
· выращивание из него монокристаллических слитков с заданными электрофизическими свойствами;
· изготовление из слитков полупроводниковых пластин;
· получение на основе пластин базовых полупроводниковых структур (обычно используются эпитаксиальные структуры);
· формирование элементов ИМС в эпитаксиальном слое полупроводниковой структуры;
· изготовление ИМС в виде отдельных законченных изделий.