рефераты конспекты курсовые дипломные лекции шпоры

Реферат Курсовая Конспект

Операция спецокисление

Работа сделанна в 1997 году

Операция спецокисление - Отчет по Практике, раздел Высокие технологии, - 1997 год - Технология производства К56ИЕ10 и серии м/с К426 и К224 Операция Спецокисление. Оборудование. Система Диффузионная См Табл. 1 Стол Мо...

Операция спецокисление. Оборудование. система диффузионная см табл. 1 стол монтажный СМ-4 А2МО 238 001 ТУ реактор кварцевый 07-0397 реактор кварцевый 07-0541 крючок кварцевый 09-1067 лодочка кварцевая 09-1216 подставка 09-1215 стаканчик СВ2470 ГОСТ 25 336-82 пинцет ПС 160х3.0 ТУ 64-1-37-78 пинцет 09-1114 часы электрические вторичные показывающие ВЧС2-М2ПВ-400-323К ТУ 25-67-1503-82 пластина кремния 7590592 10300 00022 пластина кремния спутник 7590592 10300 00022 водород хлористый сжиженный марки Э ТУ 6-01-4689387-42-90 спирт этиловый ректификованный технический марки Экстра ГОСТ 18300-87 кислород СТП ТВО 054 003-89 азот СТП ТВО 054 003-89 напальчники типа II вида Б4 ТУ 38.106567-88 салфетка из мадаполама 350х253 мм 7590592 10301 00043 салфетка из батиста 150х150 мм 7590592 10301 00045 пленка полиэтиленовая марки На, полотно, 0,040х1400, I сорт ГОСТ 10354-82 Подготовка рабочего места и организация трудового процесса. 1.1 Подготовку рабочего места и организацию трудового процесса проводить в соответствии с требованиями табл. 1. 1.2 Технологическую операцию осуществлять с соблюдением требований ТВО 045 954 ИОТ, 17.25351.00003 ИОТ, ТВО 045 829 ИОТ, ТВО 045 982 ИОТ. 1.3 Соблюдать требования производственной гигиены по СТП 17-001-90. 1.4 Параметры микроклимата должны соответствовать СТП 17-001-90 1000,10000 222 5010. 1.5 Время межоперационного хранения пластин должно соответствовать требованиям СТП 17-097-88. 1.6 Проверить наличие вытяжной вентиляции на системе диффузионной, в специальном шкафу для хранения баллона перед началом работы с хлористым водородом. Производить работу с хлористым водородом при выключенной вентиляции запрещается.

При отключении вентиляции немедленно закрыть вентиль на баллоне с хлористым водородом. 1.7 Продуть кварцевый реактор, оснастку хлористым водородом с расходом10-15 лчас не менее 30 минут 1 вначале первой смены 2 после смены оснастки, трубы 3 замены баллона с хлористым водородом 4 если время между процессами превышает 24 часа, с последующей продувкой азотом не менее 10 минут с расходом согласно таблице 2. 1.7.1 Перед включением хлористого водорода продуть линию подачи магистральным азотом не менее 10 минут с расходом согласно таблице 2. 1.7.1.1 Включить подачу азота, регулируя расход натекателем на ротаметре. 1.7.1.2 Открыть вентиль подачи азота на линию хлористого водорода вентиль с маркировкой N2. 1.7.1.3 Открыть вентиль с маркировкой, установить расход 10-15 лчас натекателем на ротаметре.

Регулировать давление в магистрали при необходимости редуктором низкого давления . 1.7.1.4 Выключить продувку азотом, перекрыть вентиль с маркировкой N2. 1.7.2 Выставить необходимый расход кислорода согласно табл. 2. 1.7.3 Открыть в вытяжном шкафу вентиль на баллоне с хлористым водородом поворотом вентиля против часовой стрелки. 1.7.4 Подать хлористый водород в систему, повернуть вентиль редуктора по часовой стрелке. 1.7.5 Проверить расход по ротаметру для подачи хлористого водорода в реактор. 1.7.6 Перекрыть вентиль на баллоне с хлористым водородом поворотом вентиля по часовой стрелке, если расход хлористого водорода выходит за допустимые пределы и повторить переходы п.п. 7.1-7.1.4. 1.7.7 Если не устанавливается необходимый расход хлористого водорода при повторном включении п.п. 7.3-7.5, закрыть вентиль на баллоне, продуть систему азотом и сообщить об этом технологу, мастеру или начальному участка.

Категорически запрещается во время работы с хлористым водородом производить регулировку давления в линии с хлористым водородом. 1.8 Менять кварцевые реакторы при отрицательных результатах по напряжению отсечки, не реже одного раза в квартал. 1.9 Проводить контрольный процесс, выполняя требования технологической инструкции согласно табл. 1, после смены баллона с хлористым водородом, после смены оснастки реактора и перед каждым процессом, если время между процессами превышает 24 часа. 1.10 Проводить процесс без использования экранных пластин. 1.11 Проводить оценку контрольного процесса по напряжению отсечки согласно вольт-емкостных характеристик по ТВО 336 568 ТК, 17.60303.00002. В случае отклонения от нормы напряжения отсечки, указанный в таблице 2, продуть реактор, оснастку хлористым водородом, провести повторно контрольный процесс, а при отрицательных результатах сменить реактор, оснастку. 1.12 Фильтры для очистки хлористого водорода заменять ежемесячно с отметкой о сроке замены и росписью наладчика в журнале.

Технологический процесс. 2.1 Провести технологический процесс, выполняя переходы технологических инструкций согласно табл. 2, в соответствии с требованиями таблицы режима соответствующего процесса.

Во время процесса следить за расходом хлористого водорода, кислорода. 2.2 По окончании технологического процесса 1 перекрыть вентиль на баллоне с хлористым водородом поворотом вентиля по часовой стрелке. 2 переключить вентиль на редукторе поворотом против часовой стрелки. 3 продуть систему азотом, выполняя переходы п.п. 6.1. 2.3 Произвести измерения толщины окисла в соответствии с требованиями 17.25202.00004 в трех точках пластины-спутник.

Толщина окисла должна соответствовать норме, заданной в таблице 2. 2.4 Заполнить сопроводительный лист и рабочий журнал. 2.5 Годные пластины передать на следующую операцию.

Табл. 1. Наименование оборудованияОбозначениеОбозначение документаСистема диффузионная многотрубчатая СДОМ 3Л00ДЕМ1 055 00917.25001.00006Система автоматизированная диффузионная АДС6-100 ДЕМ1 055 00117.25001.00042 Табл. 2. Температура рабочей зоны печи С0, 1Номер интервалаВремя, мин. Наименование временного интервалаШифр командРасход газов лчас О2 30 N2 30 HClТолщина окисла, А1121Загрузка9,13270 2101Рабочий режим9270 30.30.5Сигнализация9,12270 49040Рабочий режим9270-10-15100050.30.5Сигнализация9, 12270-10-158001100 А61090Рабочий режим6-300-7121Выгрузка6,14-300-80.30.5С игнализация6,12-300-9Между процессамиПродувка9270

– Конец работы –

Эта тема принадлежит разделу:

Технология производства К56ИЕ10 и серии м/с К426 и К224

ВВОДНАЯ ЧАСТЬ Микросхема 564ИЕ10 Микросхема содержит два отдельных четырехразрядных двоичных счетчика. Триггеры каждого из них устанавливаются в… Оборудование линия Лада 4. Окисление 1. Установки СДОМ, АДС. Температура… Температура 1200ОС. О2азот. 10. Вторая фотолитография. Формирование областей сток- исток р-канальных транзисторов и…

Если Вам нужно дополнительный материал на эту тему, или Вы не нашли то, что искали, рекомендуем воспользоваться поиском по нашей базе работ: Операция спецокисление

Что будем делать с полученным материалом:

Если этот материал оказался полезным ля Вас, Вы можете сохранить его на свою страничку в социальных сетях:

Все темы данного раздела:

МАРШРУТ ИЗГОТОВЛЕНИЯ КРИСТАЛЛА
МАРШРУТ ИЗГОТОВЛЕНИЯ КРИСТАЛЛА. ИЕ1. Формирование партии пластин. 2. Гидромеханическая отмывка пластин. 3. Химическая обработка. Смесь Каро H2SO4H2O2, перикисьно-амиачная смесь. Оборудование

ОПЕРАЦИЯ СПЕЦОКИСЛЕНИЕ
ОПЕРАЦИЯ СПЕЦОКИСЛЕНИЕ. Оборудование. система диффузионная см табл. 1 стол монтажный СМ-4 А2МО 238 001 ТУ реактор кварцевый 07-0397 реактор кварцевый 07-0541 крючок кварцевый 09-1067 лодочка кварце

ОПЕРАЦИЯ УДАЛЕНИЕ ФОТОРЕЗИСТА В СМЕСИ КАРО
ОПЕРАЦИЯ УДАЛЕНИЕ ФОТОРЕЗИСТА В СМЕСИ КАРО. Оборудование. установка химической обработки ЩЦМЗ 240 212 нагреватель ультрачистых сред ЩЦМЗ 031 173 кассета 07-0518 тара межоперационная ЩИТ - 725 пинце

КОНТРОЛЬ ЭЛЕКТРИЧЕСКИХ ПАРАМЕТРОВ КРИСТАЛЛА
КОНТРОЛЬ ЭЛЕКТРИЧЕСКИХ ПАРАМЕТРОВ КРИСТАЛЛА. Оборудование система измерительная Н2001 Интеграл зонд измерительный ОМ6010 Алгоритм программы разбраковки Алгоритм программы разбраковки кристаллов 564

СБОРОЧНОЕ ПРОИЗВОДСТВО
СБОРОЧНОЕ ПРОИЗВОДСТВО. ВВОДНАЯ ЧАСТЬ Микросхема К425НК1 Микросхема интегральная К425НК1 предназначена для работы в блоке управления экономайзера автомобиля, изготавливаемого для народного хозяйств

ОПЕРАЦИЯ НАНЕСЕНИЕ СЛОЯ КОМПАУНДА ОКУНАНИЕМ
ОПЕРАЦИЯ НАНЕСЕНИЕ СЛОЯ КОМПАУНДА ОКУНАНИЕМ. Настоящая операция предусматривает технологический процесс герметизации микросхем методом нанесения слоя компаунда окунанием. Подготовка рабочего места.

Дополнительные указания
Дополнительные указания. Микросхемы упавшие в ванну с компаундом во время окунания партии, взять пинцетом, промыть в чашке с ацетоном, загрузить в кассету и произвести окунание. 5.2 По окончании ра

Хотите получать на электронную почту самые свежие новости?
Education Insider Sample
Подпишитесь на Нашу рассылку
Наша политика приватности обеспечивает 100% безопасность и анонимность Ваших E-Mail
Реклама
Соответствующий теме материал
  • Похожее
  • Популярное
  • Облако тегов
  • Здесь
  • Временно
  • Пусто
Теги