В соответствии с физическим процессом, лежащим в основе процесса получения атомарного потока вакуумное напыление подразделяется на напыление с помощью термического испарения и ионного распыления.
1-й метод - термическое испарение включает в себя:
- нагрев осаждаемого материала с помощью источника энергии до температуры испарения,
- испарение и конденсацию паров на поверхности изделия в виде покрытия.
Движущей силой переноса атомов является перепад давлений паров над поверхностью испаряемого вещества и вблизи поверхности изделия, на которой он конденсируется.
Давление остаточных газов в этом процессе < 10-2 Па.
Энергия атомов потока составляет 0,1-0,3 эВ.
Процесс напыления покрытия путем испарения атомов подчиняется 2-м законам Ламберта-Кнудсена:
1– интенсивность потока пара в направлении угла j, между нормалью к поверхности испарения и направлением потока пара, пропорциональна cosj. Т.о. интенсивность потока пара максимальна в направлении, нормальном к поверхности испарения.
2– количество осаждаемого вещества обратно пропорционально квадрату расстояния от испарителя до поверхности изделия.
По источникам энергии, применяемым для испарения вещества, метод подразделяется на следующие разновидности:
• резистивное испарение,
• индукционное испарение,
• дуговое испарение,
• лазерное испарение,
• электроннолучевое испарение,
• ионнолучевое испарение.