Реферат Курсовая Конспект
Работа сделанна в 1997 году
КОНТРОЛЬ ЭЛЕКТРИЧЕСКИХ ПАРАМЕТРОВ КРИСТАЛЛА - Отчет по Практике, раздел Высокие технологии, - 1997 год - Технология производства К56ИЕ10 и серии м/с К426 и К224 Контроль Электрических Параметров Кристалла. Оборудование Система Измерительн...
|
КОНТРОЛЬ ЭЛЕКТРИЧЕСКИХ ПАРАМЕТРОВ КРИСТАЛЛА. Оборудование система измерительная Н2001 Интеграл зонд измерительный ОМ6010 Алгоритм программы разбраковки Алгоритм программы разбраковки кристаллов 564ИЕ10 приведен в табл. 4. Рис.3. Табл. 3. наименование элементов структурыусловное обозначениетип пр-тиматериал слоя наименование ГОСТ, ОСТ, ТУсопротивление слоя sОмтолщина слоя, глубина диффузии мкмзащитный слойН1-SiO2 термический 0.40.05диффузионный карман n-канальнх транзисторовН2pтрехфтористый борОСТ 6-02-4-83750-150091.5защитный слойН3-SiO2 термический 0.30.05области стока, истокаН4pтрехфтористый борОСТ 6-02-4-831101.70.5защитный слойН5-SiO2 термический 0.40.05области стока, истокаН6nфосфор-хлор окисьТУ-09-3537-854020.5защитный слойН7-SiO2 термический 0.350.05диэлектрик затвораН8-SiO2 термический 0.10.01-0.02контактные окна контактные площадки и проводникиН9-заготовки 270х120х28Яе 0.021,157 ТУ-1.20.1защитный слойН10-смесь газовая аргона с моносиланом фоторезист ФП-383ТУ6-02-1228-82 ТУ6-74-632-86- -0.80.1 1.30.2 Табл. 4. Нормы параметров 564 ИЕ10 наименованиенормы цехапогрешностьрежим измеренияномерпараметра не менеене болееUcc,BUo,BUoпор,BUIпор,BUI,BUIH,Bтес тапроверка контактир В 2 1-16Uпроб,B15.0-5 17,18II,мкА-0.064015 01551-56IIH,мкА-0.064015 057-62Icc, мкА-8.0515 01563-93Io, мА1.35-5100.5 01027-34Io, мА0.53-550.4 0519-26IoH,мА0.75-5109.5 01043-50IoH,мА0.63-555 0535-42Uо,B-0.0084010 010102-109UoH,B-0.008-400 100110-118Uo max,B-0.655-1.73.3 119-127UoH min,B4.65-55-1.73.3 128-134Jcc, мкА-5.0 94,96,98,100Jcc, мкА5.0 95,97,99,101
– Конец работы –
Эта тема принадлежит разделу:
ВВОДНАЯ ЧАСТЬ Микросхема 564ИЕ10 Микросхема содержит два отдельных четырехразрядных двоичных счетчика. Триггеры каждого из них устанавливаются в… Оборудование линия Лада 4. Окисление 1. Установки СДОМ, АДС. Температура… Температура 1200ОС. О2азот. 10. Вторая фотолитография. Формирование областей сток- исток р-канальных транзисторов и…
Если Вам нужно дополнительный материал на эту тему, или Вы не нашли то, что искали, рекомендуем воспользоваться поиском по нашей базе работ: КОНТРОЛЬ ЭЛЕКТРИЧЕСКИХ ПАРАМЕТРОВ КРИСТАЛЛА
Если этот материал оказался полезным ля Вас, Вы можете сохранить его на свою страничку в социальных сетях:
Твитнуть |
Новости и инфо для студентов