Физические основы процесса ионной имплантации - Лекция, раздел Строительство, Курс лекций Современные упрочняющие и ремонтно-восстановительные технологии и оборудование Лекция 6. Вакуумное методы осаждения покрытий. К основным параметрам относят При Бомбардировке Ускоренными Ионами Поверхностного Слоя Металла Энергия Нале...
При бомбардировке ускоренными ионами поверхностного слоя металла энергия налетающего иона рассеивается в серии столкновений с атомами его кристаллической решетки.
При средних энергиях ионов этот процесс контролируется двумя основными механизмами – упругим рассеянием на ядрах атомов кристаллической решетки и неупругим взаимодействием с их электронными оболочками.
Сегодня на основе известных законов ядерной физики вычислены распределения различных имплантированных ионов по глубине образцов из разных материалов.
В первом приближении их можно описать функцией Гаусса. Они подтверждены экспериментально.
Изображение каскадов столкновений при внедрении пяти ионов Ti+ в мишень Fe.
Максимумы концентрации имплантированных ионов располагаются на глубине от 20 до 2000 нм.
Его положение и величина определяются:
− соотношением масс налетающих ионов и атомов решетки,
− энергией ионов и атомной плотностью решетки,
− дозой облучения и температурой мишени,
− распыляющей способностью ионов.
Изменение концентрации Al и B в поверхностном слое стали ШХ-15, имплантированной пучком ионов AlB+, выявленное методом масс-спектрометрии вторичных ионов
Лекция Вакуумное методы осаждения покрытий... Вакуумное напыление представляет группу способов получения покрытий в которых атомарный поток осаждаемого вещества...
Если Вам нужно дополнительный материал на эту тему, или Вы не нашли то, что искали, рекомендуем воспользоваться поиском по нашей базе работ:
Физические основы процесса ионной имплантации
Что будем делать с полученным материалом:
Если этот материал оказался полезным ля Вас, Вы можете сохранить его на свою страничку в социальных сетях:
Методы вакуумного напыления покрытий
В соответствии с физическим процессом, лежащим в основе процесса получения атомарного потока вакуумное напыление подразделяется на напыление с помощью термического испарения
Методы ионного распыления
2-й метод состоит в распылении вещества бомбардировкой ускоренными ионами поверхности мишени.
В вакуумную камеру после откачки до давления остаточных газов < 0,005Па напускается рабочий
Ионная имплантация.
Это бомбардировка материалов ионами с высокой энергией, при которой происходит их внедрение в поверхностный слой. В сравнении с ионным распылением данный процесс становится возможным при разгоне ио
Дефекты покрытий
При некачественной подготовке поверхности изделий под покрытие,
несоблюдении оптимальных режимов напыления и технологии нанесения покрытия,
применении некачественных исходных мате
Определение адгезии покрытий.
Второй важной характеристикой покрытий является их адгезия или прочность сцепления покрытия с подложкой, которая равна напряжению отрыва покрытия от подложки. В настоящее время в ми
Определение микротвердости покрытий.
Срок службы деталей машин зависит от износостойкости покрытий, которая в основном определяется их твердостью.
Чем больше твердость покрытий, тем выше их износостойкость.
Новости и инфо для студентов